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膜厚測量儀是一款高精度、高重復性的機械接觸式精密測厚儀，可選配自動進樣機，更加準確、高效的進行連續多點測量。測試原理：將預先處理好的薄型試樣的一面置于下測量面上，與下測量面平行且中心對齊的上測量面，以一定的壓力，落到薄型試樣的另一面上，同測量頭一體的傳感器自動檢測出上下測量面之間的距離，即為薄型試樣的厚度。膜厚測量儀基礎應用：紙——各種紙張、紙板、復合紙板等的厚度測定；薄膜、薄片——各種塑料薄膜、薄片、隔膜等的厚度測定；擴展應用：瓦楞紙板——瓦楞紙板的厚度測定；金屬片、硅片—...

納米壓痕儀是一種準確，靈活，使用方便的納米級機械測試儀器。它測量楊氏模量和硬度，包括從納米到毫米的六個數量級的形變測量。該系統還可以測量聚合物，凝膠和生物組織的復數模量以及薄金屬膜的蠕變響應（應變率靈敏度）。模塊化選項可適用于各種應用：頻率特定測試，定量刮擦和磨損測試，集成的基于探頭的成像，高溫納米壓痕測試，擴展負載容量高達10N和自定義測試。納米壓痕儀主要適用于測量納米尺度的硬度與彈性模量，測量結果通過載荷及壓入深度曲線計算得出，無需應用顯微鏡觀測壓痕面積?？杀挥糜谟袡C或無...

白光干涉儀以白光干涉技術為原理、結合精密Z向掃描模塊、3D建模算法等對器件表面進行非接觸式掃描并建立表面3D圖像，通過系統軟件對器件表面3D圖像進行數據處理與分析，并獲取反映器件表面質量的2D、3D參數，從而實現器件表面形貌3D測量的光學檢測儀器。白光干涉儀可測各類從超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物體表面，從納米到微米級別工件的粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓、曲率等，提供依據ISO/ASME/EUR/GBT四大國內外標準共計300余種2D、3D參數作為評價標準。目前儀器可廣...

接近式光刻機又名：曝光系統，光刻系統等，是一種用于信息科學與系統科學、能源科學技術、電子與通信技術領域的工藝試驗儀器。其工作方式是通過光的作用，將掩模版上的電路圖形投影到產品表面光刻膠上，然后顯影出圖形，最后經過蝕刻、離子植入等制程定型形成有效的電路。工作原理：接近式光刻機通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經物鏡補償各種光學誤差，將線路圖成比例縮小后映射到硅片上，不同光刻機的成像比例不同，有5:1，也有4:1。然后使用化學方法顯影，得到刻在硅片...

光學輪廓儀是一種雙LED光源的非接觸式光學儀器，對樣品基本上沒有損害。視樣品選擇不同測量模式。相移干涉模式(PSI)主要用于測量光滑表面粗糙度；垂直掃描干涉模式(VSI)則可以做高度、寬度、曲率半徑，粗糙度的計測等。光學輪廓儀的測試原理：白色光經分光板發射出特定波長的光。這種特定波長的光在雙光束干涉物鏡中，經過分光板被分成兩束光，一束光照射到參照物表面，另一束光照射樣品表面，這樣得到的兩束反射光在相機上成像。將樣品表面的凹凸不平引起的光程差所獲得的干涉條紋信息轉換成高度信息，...