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在微電子、納米、半導體領域為晶片接合和光刻技術提供設備技術方案的供應商EVG近期推出了NT系列光刻機和對準測試機，這是一個全新的、已經被生產廠家驗證過的新型光刻曝光機以及晶圓對晶圓(W2W)接合曝光和測試系統，可滿足用戶對更高光刻精度的需求。業內向更小結構和更密集封裝生產轉型的趨勢帶來了眾多的新挑戰，如對更高精度的要求，因為這將嚴重影響設備的偏差律，并最終影響生產效率和增加成本。新的EVGNT系列光刻機對準機可極大提高對準精度-范圍從1微米至0.1微米-從而為生產廠家在先進微...

一、簡介第四次工業革命以數年前尚不存在的技術席卷了我們的生活，其中一些在幾十年前甚至無法想象。自動駕駛汽車已經在公共街道上進行測試；無人機正在調查地形，拍攝視頻，派發包裹；由專業人士和業余愛好者創建的大量視頻內容正在被拍攝和發布；固定和移動監視變得司空見慣；服務器的體量變得驚人的龐大，4G網絡正在被5G補充或替代。所有這些趨勢的共同之處在于，它們生成的大量數據必須比以往任何時候更快、更可靠地進行處理、傳輸和存儲。上述這些新應用中，許多將需要高級邏輯器件來實現更高的功耗和處理速...

納米壓印光刻系統制造商SwissLithoAG今天宣布一種聯合解決方案，可以生產最小到單納米級的3D結構。該方案最初在由歐盟第七框架計劃資助的“超越CMOS器件的單納米制造（SNM）”項目中得到證明，該方案涉及SwissLitho的新型NanoFrazor熱掃描探針光刻系統，以生產具有3D結構的主模板用于納米壓印光刻系統和EVG。目標應用：EVG和SwissLitho最初將以聯合解決方案為目標，以開發衍射光學元件和其他相關光學組件，以支持光子學，數據通信，增強/虛擬現實和其他...

光刻技術是將二維圖案轉印到平坦基板上的方法。可以通過以下兩種基本方法來實現圖案化：直接寫入圖案，或通過掩模版/印章轉移圖案。設定的圖案可以幫助生成襯底上的特征，或者可以由沉積的圖案形成特征。通過計算機輔助設計（CAD）定義圖案模式。多數情況下，這些特征是使用抗蝕劑形成的，可以使用光（使用光致抗蝕劑），電子束（使用電子束抗蝕劑）或通過物理壓印（不需要抗蝕劑，也叫納米壓印）來定義圖案特征。圖案的特征可以被轉移到一個基板，再進行蝕刻，電鍍或剝離。1.技術領域根據所需的特征，有幾種不...

Microsense電容式位移傳感器提供高穩定性和線性方案、高分辨率、高帶寬測量方案，用于測量硬盤驅動馬達，氣動軸承轉子，X-Y樣品臺準確度，光盤，汽車零部件和機床等測量。它的用途廣泛：金屬薄片厚度測量，振動測量，工作臺垂直度和平坦度測量，精密馬達轉軸偏振測量，精密儀器工作平臺定位，設備自動聚焦測量（微影設備、原子力顯微鏡、光罩探測、圖像確認、LCD生產設備…）它的安裝難度：它是易于安裝的Microsense電容式位移傳感器。MicroSense的電容式位移傳感器使用單個傳感...